Description
产品编号: WT-SG-029
CAS: 7783-54-2
产品纯度:3N~5N
包装规格:4L/8L/10L/40L/47L/50L
产品形态:气态
主要用途:三氟化氮 (NF3):用于半导体工业中的等离子体刻蚀。
产品编号: WT-SG-029
CAS: 7783-54-2
产品纯度:3N~5N
包装规格: 4L/8L/10L/40L/47L/50L
产品形态:气态
主要用途:三氟化氮 (NF3):用于半导体工业中的等离子体刻蚀。
产品编号: WT-SG-029
CAS: 7783-54-2
产品纯度:3N~5N
包装规格:4L/8L/10L/40L/47L/50L
产品形态:气态
主要用途:三氟化氮 (NF3):用于半导体工业中的等离子体刻蚀。